Technology Platform

大面积纳米压印,
驱动下一代光学制造

魔飞光电专注大面积纳米压印技术的产业化应用,围绕设备、材料、工艺与检测建立可复制、可量产的先进制造平台。依托自主研发的 Roll-to-Plate(R2P)纳米压印平台,我们帮助客户在大面积基材上实现高精度、低成本、可规模量产的微纳结构制造,为 AI 智能眼镜、先进显示、汽车光学与功能表面应用提供从研发验证到规模量产的制造基础设施。魔飞光电不仅提供设备,更整合材料、工艺、检测与量产导入能力,形成完整技术平台,帮助客户获得稳定一致的工业化生产能力。

魔飞光电 Aurora 1100 大面积纳米压印设备

CLEAN ROOM & COMPETENCE CENTER

洁净室与工艺验证中心

先进制造能力不仅体现在设备平台,更体现在工艺验证与量产导入能力。魔飞光电拥有超过 1000 平方米洁净室与工艺验证环境,配备先进制造、检测与计量设备。

Why Large-Area Nanoimprinting

为什么选择大面积纳米压印?

Morphotonics 的大面积纳米压印技术融合了规模量产效率与高精度复制能力,为先进光学与功能表面应用提供高性能、低成本、可量产的制造方案。

晶圆级 UV 纳米压印

高精度,但尺寸与量产扩展受限

大面积光刻

效率与成本表现突出,但复杂结构自由度有限

生产效率
较低
制造成本
较高
基材尺寸
小尺寸基材小尺寸与大尺寸基材小尺寸与大尺寸基材
结构精度
高精度中等
图形自由度
有限
工业化量产能力
有限优秀良好

晶圆级 UV 纳米压印

高精度,但尺寸与量产扩展受限

生产效率
较低
制造成本
较高
基材尺寸
小尺寸基材
结构精度
图形自由度
工业化量产能力
有限

大面积光刻

效率与成本表现突出,但复杂结构自由度有限

生产效率
制造成本
基材尺寸
小尺寸与大尺寸基材
结构精度
中等
图形自由度
有限
工业化量产能力
良好

Design Freedom

设计自由度

复杂结构复制

复杂光栅、斜面、阶梯结构及二维光学结构。

高效复制能力

高效率复制能力,支持规模化导入。

多树脂材料

兼容多种 UV 树脂材料路线。

多涂布工艺

支持喷墨打印、旋涂等涂布工艺。

后段工艺兼容

可衔接刻蚀、ALD 等后段工艺。