Modular Nanoimprint Lithography Platform
面向多应用场景的模块化纳米压印光刻平台
Portis 平台为工业化制造而构建，由 Coater C1100、Imprint NIL600 / NIL1100 与 Primer P1100 等模块组成，可根据不同生产要求灵活配置和扩展，并平滑接入高产能制造环境。
Portis
面向多应用场景的模块化工业平台
前处理与后处理兼容
多基材微纳结构复制
试产到量产扩展
Manufacturing Platform
把设备模块连接成可导入的量产架构
基材与上料
适配多类刚性与柔性基材，并支持工业级上下料。
涂布模块
C1100 涂布机支持不同材料粘度与工艺窗口。
NIL 模块
NIL600 / NIL1100 可按尺寸与应用需求灵活配置。
模块化扩展
独立灵活架构支持新增、升级或调整模块。
Brochure Highlights
设备图片与应用场景
结合设备资料中的平台示意、应用图片和现场图，帮助客户快速判断设备形态、目标应用和制造环境。
Key Specifications
关键参数
Suitable Applications
适用应用场景
从设备能力反向查看应用场景，了解不同终端产品为什么需要这类纳米压印制造平台。
Equipment Assessment
评估这类设备是否适合你的量产路线
围绕应用、基材、结构尺寸、目标产能和导入阶段，魔飞光电中国团队可协助判断设备配置与工艺路径。
联系中国团队