展会回顾 / 2026.09.18
魔飞光电 2026 CIOE 展会回顾： 以显示级制造，开启AR光波导量产新时代
2026 年 9 月，中国国际光电博览会（CIOE）在深圳举办。魔飞光电携荷兰总部与国内团队联合参展，现场展示大面积纳米压印（NIL）技术迭代成果与 AR 光波导量产方案，和行业伙伴开展技术交流。
CEO Hugo da Silva与CTO Jan Matthijs ter Meulen亲临现场，与荷兰总部及中国本地团队一起，向行业展示了大面积纳米压印（NIL）技术的最新迭代成果。
现场直击：样品展示
本次参展，我们以Cypris和Aurora两大平台为核心，集中展示了AR波导晶圆、彩色波导阵列、裸眼3D光栅透镜、防眩光结构、微透镜阵列、面板级TFT阵列等样品，覆盖了从AR显示到先进封装的多条产品线。
双演讲聚焦：重新定义AR制造范式
展会期间，Hugo da Silva与Jan Matthijs ter Meulen分别带来主题分享，从产业趋势和技术实现两个维度，介绍大面积纳米压印技术在 AR 光波导、裸眼 3D、先进封装 CPO、车载 HUD 等多个方向的应用潜力。
Hugo在演讲中指出，AI眼镜是AR最核心的终端形态，但当前AR光波导受限于传统晶圆制造，产能不足、成本居高不下。行业亟须一套可规模化的新制造体系。魔飞光电的卷对板（R2P）纳米压印技术，将半导体级图案精度引入大尺寸显示面板生产，打通高性能与低成本量产之间的瓶颈。
Jan Matthijs ter Meulen从技术层面拆解了可行性：通过R2P，可在700×700mm至1100×1100mm的显示级面板上实现纳米级精度复制。单台设备年产能可达600万片AR目镜；喷墨打印工艺实现超薄残留层控制（21-29nm）；复杂倾斜光栅结构可稳定复制超过100次，良率超过90%。
媒体关注：DIGITIMES专访报道
展会期间，国际权威科技媒体DIGITIMES对魔飞光电进行了深度报道。报道指出，魔飞光电凭借显示行业背景，为AR波导制造瓶颈提供了全新思路——与多数来自半导体背景的竞争对手不同，魔飞光电让客户可以从标准晶圆起步，在兼容半导体晶圆尺寸的同时，在同一设备平台上逐步迁移到更大的方形基底，从而在不影响精度的前提下降低单位制造成本。
报道特别提到，魔飞光电约80%的客户位于中国大陆及中国台湾地区，公司正积极加强在中国市场的布局。“苹果、三星等公司都在这里制造，整合在这里发生，因此组件生产靠近最终组装地是合乎逻辑的。”
展望未来：携手生态伙伴，共赴量产之路
从2024—2026年的技术验证，到2026—2028年的中试量产，再到2028年后的百万级规模生产，魔飞光电已规划清晰的发展路径。我们坚信，显示级制造是AR光波导走向大众市场的正确基石。
感谢所有莅临魔飞光电展位的合作伙伴与行业同仁。未来，我们将继续深耕中国市场，与产业链伙伴紧密协作，共同推动AR眼镜迈入量产时代，让AI眼镜真正成为每个人的日常伴侣。